理化性状
性 状：白色粉末结晶
含 量：98%
工艺条件
铬酐 250g/L
硫酸 2.7g/L
HVEE(开缸) 3g/L
三价铬 1～3g/L
温度 55～60℃
DK 30～90A/dm2
阴阳极面积比 2～3:1
HVEE补给量 2g/KAH
消耗量：
HVEE随铬酸消耗量的比例消耗，一般消耗100g的铬酸，相应消耗1.5g的HVEE。
作用机制
1. 阴极电流效率高达22～26%，是传统标准镀铬工艺的2～3倍，节约能
源。
2. 使用电流密度宽广，30～90A/dm2均可，沉积速度快。
3. 不含氟化物，对基体的低电流密度区不产生腐蚀，对阳极无腐蚀。
4. 镀层硬度HV可达1000～1100，微裂纹数达400～1000条/cm。
5. 镀层光亮，平滑细致，厚度均匀，深镀能力佳。
6. 镀液稳定，易操作，维护方便。
包装
1000g塑袋
