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著名产品 |
| 丁醚嗡盐(镍强白亮低电位走位剂)
MOSS >> 丁醚嗡盐 |
 产品介绍：
含量98% 性状:棕红色液体,任何比例水溶
PH: 5-7
作用与机理:
MOSS是一种强力白亮的走位剂,可用于初级光亮剂或次级光亮剂中,作为配制光亮剂的基本原料。最适用于滚镀光剂或深孔镍光剂,通常与糖精、炔醇类中间体以及PPS等次级光亮剂配合使用,这样便可获得极佳的深度效果和高整平、全白亮的镀层。
镀液含量：0.01-0.02g/L 消耗量：3-5g/KAH
装：20Kg防盗塑桶 |
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丙炔嗡盐(镍强光亮低电位走位剂)PESS
>> 丙炔嗡盐 |
 产品名称:丙炔嗡盐
含量性状棕红色液体任何比例水溶 PH：5-7
作用与机理：
在光亮镀液中，PESS是一种强力走位剂可用于初级光亮剂或次级光亮剂中最适用于滚镀镍光亮剂，通常与糖精炔醇类中间体及PPS等次级光亮剂配合使用这样便可以获得极佳的深孔效果和高整平全光亮的镀层。
镀液含量：0.01-0.02g/l 消耗量：3-5g/KAH
包装：20KG 防盗塑桶 |
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镍缸高性能去锌、铜杂TPP |
 产品介绍：
化学名称：TPP高性能去锌，铜杂剂
含量：99% 性状：白色颗粒状结晶体 PH：5—7
作用与机理：
在光亮镍镀液中，混入的铜离子＞10mg/L．锌离子＞20mg/L时，会使低电流密度区产生灰暗色镀层，脆性增大，严重时有黑色条纹产生．对这一问题，以往常用电解法处理锌离子，用QT去铜粉处理铜离子，由于上述方法繁琐．费时，所以对生产有较大影响．使用TPP去杂剂则会改变镍缸中铜杂质锌杂质电位，将杂质共沉积，无需电解、过滤，同时可增加镀层的白亮度；消除镍度层上的黄斑；提高深孔走位能力。TPP去杂剂特别适用于锌合金压铸件镀镍去杂．
使用方法：将1kg固体TPP溶解在100kg去离子水中，在镀液中加入量为2—4ml/L，可除铜15mg，除锌20mg。
消耗量：按杂质情况适当补加，过量多加需补加主光剂增加光亮度。包装：1000g塑袋 |
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高效铬雾抑制剂F-53 |
 产品名称：F53铬雾抑制剂
产品介绍：
化学名称：氟烷基锌基磺酸钾
分子式：C8F17SO3K
分子量：538
性状：白色粉未状结晶，非危险品作用与机理。
作用与机理：
在镀铬槽液中，加入F53其槽液表面立即形成一层细微泡沫表面层，其表面层耐铬酸氧化，从需防止铬雾溢出，在电镀时，槽边铬含量可降至国家允许标准0.05mg/m3空气。
槽液用量：0.02—0.04g/L（热水溶解）
补加强：0.02g/L
包装：500g/瓶，1000g /瓶
储运事项：本品属非危险品应储存在闭光室内。
以上电镀中间体为非危险品，应储存在闭光室内．
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HVEE高效镀硬铬催化剂 |
产品介绍:
作用与机理:
1、阴极电流效率高达22-26%，是传统标准镀铬工艺的2-3倍，节约能源。
2、使用电流密度宽广，30-90A/dm2均可，沉积速度快。
3、不含氟化物，对基体的低电流密度区不产生腐蚀，对阳极无腐蚀。
4、镀层硬度HV可达1000-1100， 微裂纹数达400-1000条/cm.
5、镀层光亮、平滑细致、 厚度均匀。深厚感情镀能力佳。
6、镀液稳定，易操作，维护方便。
镀液的工艺条件：
| 铬酐 |
250 g/L |
| 硫酸 |
2.7g/L |
| HVEE开缸剂 |
5g/L |
| 三价铬 |
1-3g/L |
| 温度 |
55-60℃ |
| DK |
30-90A/dm2 |
| 阳极面积： |
阴极面积 2-3：1 |
生产维护：HVEE补给剂：2-5g/KAH
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PN 酸铜调温载体、低电位走位剂 |
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AESS 酸铜强走位剂 |
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ABSS 酸铜强低电位走位剂 |
资料正在建设中...
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